複合型PLD装置

VPLD−2000

特 長

70台以上の販売実績を誇る多目的PLD装置です。

豊富な実績に基づいた設計により安定した動作が可能です。

他のスパッタ源や蒸着源を組み合わせることが可能です。

最大φ2"の基板サイズに対応し、φ2"専用のランプの採用により広範囲な圧力での実験が可能です。

新たに、大面積PLDに搭載したシーケンスにより最大φ2"の基板サイズに均一な分布を提供するオプションをはじめ
豊富なオプション選択が可能です。


VPLD-2000 外観図(PDF)

仕 様


構成仕様
処理室 到達真空度 6.7×10-7Pa
水冷付基板
加熱機構
(Z付き)
加熱方式 ハロゲンランプヒーター
基板(試料)
サイズ
φ2"
最大加熱温度 900℃
ターゲット機構
(Z付き)
ターゲット
(材料)サイズ
φ20mm×t3
ターゲット数 4・6個
ロードロック
チャンバ
(搬送機付き)
到達真空度 6.7×10-5Pa
基板ホルダ数 2個
ターゲットホルダ数 4個
オプション 加熱方式 石英ロッド式加熱
マスク機構 最大2基
高速電子回折
システム
1基
ラジカルビーム源 2基
スパッタガン 2基
レーザ架台 光学フード付き
最大2台のPLDと接続可能
大面積均一分布制御 PC、モータドライブ
産業技術研究所殿共同出願特許使用