高速加熱処理装置
VPRT−4000 |
特 長
φ4”基板(最大φ8")を最大950℃まで950℃/分の昇温速度で高速加熱可能。
ロードロック室が設置可能。
高速加熱処理概念(PDF) |
仕 様
構成 | 仕様 | |
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処理室 | 到達真空度 | 1.33×10-6Pa以下 |
排気系 | TMP200L/S RP160L/min | |
基板加熱機構 | 加熱方式 | ランプ(Sicヒータ) |
基板(試料)サイズ | φ4" | |
最大加熱温度 | 950℃ | |
昇温速度 | 950℃/min | |
温度分布 | 900℃(±3%) | |
導入ガス | プロセスガス@ | H2、N2、NH3、O2、N2/H2 |
プロセスガスA | O2 (インラインフィルタ付き バリアブルリークバルブ) |
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ロードロック チャンバ (搬送機付き) | 到達真空度 | 6×10-5Pa |