高速加熱処理装置
| ＶＰＲＴ－４０００ |  |
特 長
φ4”基板(最大φ8")を最大950℃まで950℃/分の昇温速度で高速加熱可能。
ロードロック室が設置可能。
| 高速加熱処理概念（PDF） |  |
仕 様
| 構成 | 仕様 | |
|---|---|---|
| 処理室 | 到達真空度 | 1.33×10-6Pa以下 |
| 排気系 | TMP200L/S RP160L/min | |
| 基板加熱機構 | 加熱方式 | ランプ(Sicヒータ) |
| 基板（試料）サイズ | φ4" | |
| 最大加熱温度 | 950℃ | |
| 昇温速度 | 950℃／min | |
| 温度分布 | 900℃(±3%) | |
| 導入ガス | プロセスガス① | H2、N2、NH3、O2、N2／H2 |
| プロセスガス② | O2 (インラインフィルタ付き バリアブルリークバルブ) |
|
| ロードロック チャンバ （搬送機付き） | 到達真空度 | 6×10-5Pa |